鎳鉑合金靶材：精密鍍膜的關(guān)鍵材料

在真空鍍膜領(lǐng)域，鎳鉑合金靶材憑借其獨(dú)特的物理化學(xué)特性，成為制備高端功能薄膜的核心材料。
這種由鎳和鉑按特定比例熔煉而成的合金，通過(guò)磁控濺射工藝能在基材表面形成致密均勻的薄膜，在半導(dǎo)體、光學(xué)器件等領(lǐng)域展現(xiàn)出不可替代的價(jià)值。

鎳鉑合金靶材的制備需要精確控制鉑含量在5-20%之間，采用真空感應(yīng)熔煉結(jié)合精密軋制技術(shù)。
這種配比使材料兼具鎳的延展性和鉑的化學(xué)穩(wěn)定性，晶粒尺寸可控制在10微米以下。
在濺射過(guò)程中，合金靶材表現(xiàn)出優(yōu)異的濺射速率穩(wěn)定性，每小時(shí)的沉積速率波動(dòng)不超過(guò)3%，這對(duì)保證薄膜厚度一致性至關(guān)重要。

實(shí)際應(yīng)用中發(fā)現(xiàn)，鎳鉑合金薄膜的電阻率可低至15μΩ·cm，抗氧化溫度高達(dá)600℃。
某研究機(jī)構(gòu)測(cè)試數(shù)據(jù)顯示，采用這種靶材制備的薄膜在85℃/85%RH環(huán)境下經(jīng)過(guò)1000小時(shí)老化后，導(dǎo)電性能衰減不足5%。
這些特性使其特別適合制作高可靠性電子元件的導(dǎo)電層，如MLCC電極、觸摸屏感應(yīng)線路等。

值得注意的是，鎳鉑合金靶材的使用需要配套優(yōu)化工藝參數(shù)。
當(dāng)濺射功率超過(guò)8W/cm2時(shí)，薄膜應(yīng)力會(huì)明顯增加；而將工作氣壓控制在0.3-0.5Pa范圍內(nèi)，可獲得較佳的膜層附著力。
這些經(jīng)驗(yàn)參數(shù)對(duì)保證鍍膜質(zhì)量具有重要指導(dǎo)意義，也是發(fā)揮材料性能的關(guān)鍵所在。